众所周知，在集成电路制造中，光刻覆盖了微纳图形的转移、加工和形成环节，决定着集成电路晶圆上电路的特征尺寸和芯片内晶体管的数量，是集成电路制造的关键技术之一。而随着半导体工艺向7nm及以下节点的推进，极紫外
因为芯片，很多人都知道了ASML、佳能等公司的光刻机。不过，半导体产品显然不是靠一台光刻机就能加工完成，实际上要部署的设备非常多元复杂。
11月29日消息，CINNO Research日前发布了2022年第三季度全球上市公司半导体设备制造商业务营收排名，其中排名前十位企业营收合计达275亿美元，约合人民币1983亿元，同比增长8.6%，环比增长14.9%。
近日，国家知识产权局公布了一项新的华为专利，专利名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”，编号是CN115343915A，此项专利与EUV光刻机有关，也引起了众多关注。
下半年以来的半导体行业调整，似乎并没有给台积电造成比较大的影响，其1~11月的累计收入同比增加了44.6%。
Intel目前的12代、13代酷睿使用的还是Intel 7工艺，明年的14代酷睿Meteor Lake将首发Intel 4工艺，这也是Intel首次使用EUV光刻的工艺，SRAM晶体管规模几乎接近台积电3nm工艺。
12月27日 消息:近日，百度沸点联合凤凰网科技发布了“2022年度科技热词”，分别是元宇宙、Web3.0、数字藏品、量子纠缠、数字人、AIGC、数字经济、光刻机、计算生物学、碳中和。
芯片制造离不开光刻机，数据显示，全球晶圆制造材料中的第一大耗材是硅片，第二大就是电子特气。